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  • 机械剥离氧化硅硅基底二硒化钨

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    Mechanical exfoliation WSe2 on SiO2/Si

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  • 产品信息

中文名称： 机械剥离氧化硅硅基底二硒化钨

英文名称： Mechanical exfoliation WSe2 on SiO2/Si

CAS号： 7440-33-7

包  装： 1片

保质期：  6月常温干燥避光

性  质

形  态：薄膜

参  数

基  底： 氧化硅/硅

基底尺寸： 10 mmx10 mm

机械剥离氧化硅硅基底二硒化钨氧化层： 300nm

WSe2 面积： ＞10 µm2

应  用： 江南纯试剂最新推出机械剥离制备的二硒化钨，该类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料。

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