中文名称: 单层氮化硼薄膜(HBN)SiO2/Si基底
英文名称: Monolayer boron nitride film(HBN)
CAS号:7440-42-8
包 装: 4英寸/ 6英寸
参 数
4英寸圆片,SiO2/Si基底
6英寸 圆片,SiO2/Si基底
保质期: 1年常温干燥避光密封保存
性 质
覆盖率: 100%
基 底: SiO2/Si
晶粒尺寸: >4 um
单层氮化硼薄膜(HBN)SiO2/Si基底氧化层: 300 nm
硅: 500 um
应 用: HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层,以及电子的隧道阻挡层,使其具有广泛的应用,例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。
其他信息: 常温干燥避光密封保存,保存期限1年。
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