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  • CVD二氧化硅硅基底单层二硫化钨

  • JLC12411

    Single Layer WS2 on SiO2/Si

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  • 产品信息

中文名称： CVD二氧化硅硅基底单层二硫化钨

英文名称： Single Layer WS2 on SiO2/Si

CAS号：7440-33-7

包  装： 1 盒

保质期：  6月常温干燥避光

性  质

形  态： 薄膜

CVD二氧化硅硅基底单层二硫化钨参  数

基  底： 二氧化硅/硅

氧化层： 300nm

基底尺寸： 9 mmx9 mm

WS2片径大小： 20-50 µm

厚  度： 0.6～0.8 nm

应  用： 该类材料缺陷少，光学性质优良，层数可控，是研究层数和荧光效应和制备器件的优异材料。

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