• 机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼
  • JLC12050

    Mechanical exfoliation MoS2 on Al2O3

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中文名称: 机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼

英文名称: Mechanical exfoliation MoS2 on Al2O3

CAS号:1317-33-5

包  装: 1片

保质期:  6月常温干燥避光

性  质

形  态:薄膜

参  数

基  底: 氧化铝

机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼基底尺寸: 10 mmx10 mm

MOS2面积: >10 µm2

应  用: 江南纯试剂最新推出机械剥离制备的二硫化钼,相比较锂插层制备的单层类石墨烯材料,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料。

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