• 机械剥离氧化铝基底二硫化钨
  • JLC12051

    Mechanical exfoliation WS2 on Al2O3

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  • 产品信息

中文名称: 机械剥离氧化铝基底二硫化钨

英文名称: Mechanical exfoliation WS2 on Al2O3

CAS号:7440-33-7

包  装: 1片

保质期:  6月常温干燥避光

性  质

形  态:薄膜

参  数

机械剥离氧化铝基底二硫化钨基  底: 氧化铝

基底尺寸: 10 mmx10 mm

单层WS2面积: >10 µm2

应  用: 江南纯试剂最新推出机械剥离制备的二硫化钨,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料。

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