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    Monolayer boron nitride film（HBN）

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  • 产品信息

中文名称： 单层氮化硼薄膜（HBN）铜基

英文名称： Monolayer boron nitride film（HBN）

CAS号：7440-42-8

包  装： 1”x1 ”/ 2”x2 ”/ 3”x3 ”

参  数

1英寸x1英寸,铜基

2英寸x2英寸,铜基

3英寸x3英寸,铜基

保质期： 1年常温干燥避光密封保存

单层氮化硼薄膜（HBN）铜基性  质

覆盖率： 100%

基  底： Cu

晶粒尺寸： >4 um

应  用： HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层，以及电子的隧道阻挡层，使其具有广泛的应用，例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。

其他信息： 常温干燥避光密封保存，保存期限1年。

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